爱企猫03月11日消息：美光（Micron）在2月向英特尔（Intel）和AMD等客户交付1γ（gamma）DDR5样品,成为内存行业中首家实现这一突破的企业。公司计划通过减少对极紫外光刻（EUV）设备的依赖,转而更多采用成熟的氩氟浸没式光刻（ArFi）工艺来加速量产尖端DRAM。
与美光不同,三星和SK海力士在DRAM技术发展中更依赖EUV层。
本文地址：https://news.aiqimao.com/id/39598
爱企猫03月11日消息：美光（Micron）在2月向英特尔（Intel）和AMD等客户交付1γ（gamma）DDR5样品,成为内存行业中首家实现这一突破的企业。公司计划通过减少对极紫外光刻（EUV）设备的依赖,转而更多采用成熟的氩氟浸没式光刻（ArFi）工艺来加速量产尖端DRAM。
与美光不同,三星和SK海力士在DRAM技术发展中更依赖EUV层。
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